Im Laser-Laboratorium Göttingen werden nach einer neuen patentierten Methode Phasenmasken (Diffraktive Phasen-Elemente) aus Quarzglas kundenspezifisch gefertigt. Die neuen Phasenmasken sind besonders zur Mikro-Strukturierung mit UV- und Hochleistungslasern geeignet. Insbesondere in Kombination mit abbildenden Systemen sind diese Masken hervorragend anwendbar. Nicht nur ein- oder zweidimensionale periodische Strukturen können realisiert werden, sondern auch komplexe Muster, mit denen sich nahezu beliebige Intensitätsverteilungen erzeugen lassen. So lassen sich beispielsweise auch Strukturen herstellen, die computergenerierte Hologramme definieren. Zeitraubendes sequentielles Bearbeiten wird durch diese Methode überflüssig.

 

Die neuen Phasenmasken sind einsetzbar bei Wellenlängen vom tiefen UV (193 nm) bis ins nahe IR einsetzbar und können mit hohen Spitzenleistungen betrieben werden. Durch diese Charakteristika sind sie sowohl für Excimer-Laser-basierte Bearbeitungsstationen wie für Femtosekunden-Laser-Systeme geeignet.

Während Quarzoptiken, wie beispielsweise konventionelle Phasenmasken oder diffraktive Elemente, in einem aufwändigen Prozess durch Trockenätzen hergestellt werden, basiert das neue Verfahren auf Laserablation, also dem mittels eines UV-Lasers induzierten Materialabtrags.